明電舎は２３日、高濃度のオゾンガス（ピュアオゾンガス）と水蒸気を組み合わせて「ＯＨラジカル」と呼ばれる化学反応性の高い物質を効率良く生成する新技術を開発したと発表した。半導体製造工程の一つである原子層堆積（ＡＬＤ）に適用した結果、従来のオゾンガスのみを使用する場合と比べて不純物を約１００分の１まで低減。先端半導体の絶縁特性を維持しつつ、さらなる薄膜化を可能にする。今後は実際の半導体デバイスに適用するための検証を進め、量産工程への導入を目指す。
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